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武汉大学纳米中心微加工实验室2017年春季学期培训报名通知

武汉大学纳米中心微加工实验室2017年春季学期培训报名通知
纳米中心微加工实验室2017年春季学期培训报名开始了。本次培训包括 聚焦离子束系统FIB(含图形发生器),紫外曝光,纳米压印,热蒸发,反应离子束刻蚀,电子束蒸发、小型扫描电镜,引线仪等八台设备培训和微加工实验室洁净间工作培训。 
 
FIB可实现对纳米器件的原位加工和观测,包括TEM样品制备,原位制作电极等。具体工艺包括对硅等材料的物理刻蚀和原位沉积Pt,C材料。 FIB配合图形发生器可进行小面积的电子束曝光。
紫外曝光设备可实现正面/反面套刻,曝光极限尺寸1微米。紫外波长300-400nm。  

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