聚焦离子束

FEI Nova 3D 

镓离子束

器件最小线宽 20 nm

可沉积Pt,C

Omniprobe探针

Raith ELPHY Quantum图形发生器

用于芯片失效分析、TEM样品制备、微纳图案的原位加工、小区域电子束曝光

纳米压印

Obducat Eitre 6 

压印温度:室温至200℃ 

最大压力:70 Bar 

LED UV 波长/光强: 365±10nm/ 35~45 mW/cm2

样品尺寸:最大 6 英寸 

用于大面积纳米图案的快速复制。

反应离子束刻蚀

北京泰龙 RIE-100型

用于硅基材料刻蚀

气源: CHF3,CF4,SF6,O2,Ar

射频功率: 500W ,13.56MHz

样片尺寸:最大6英寸

紫外光刻

四川南光 H94-37型

支持软接触、硬接触、真空接触曝光模式

最小线条宽度:1微米

光源:350 W近紫外光源,波长范围350nm-450nm

曝光尺寸:最大6英寸晶圆

光强:>15 mW/cm2 @ 365 nm

支持正面/反面套刻

正面对准精度不差于1微米

背面对准精度不差于5微米

用于微米图案的曝光

原子层沉积

迈纳德 f-100-41

样片尺寸:最大4英寸

基底加热温度:室温至300℃

用于生长氧化铝、氧化锌

热蒸发

安徽嘉硕 JSD-400

样片尺寸:最大4英寸

配备2套数显蒸发电源,功率:3KW

可蒸镀金、银、铬、铝、镍

通风橱

热板、涂胶台、气枪、超声清洗、超纯水

可完成洗片、涂胶、烘胶、显影、溶脱等工艺

扫描电子显微镜

JSM-6510LV

分辨率:高真空3.0nm低真空8.0nm
放大倍率:×5~3000000
低真空范围10~270pa

电子束蒸发

电子束蒸发

公司:Kurt J. Lesker Company USA

型号:PVD75

电子束电流:0-500mA

电子束电压:10V

输出功率:5kW

极限真空度:2X10-7 Torr

最大蒸镀样品尺寸:4inch

引线仪

1.同机可进行金丝铝丝压焊,标准送线角度为45度,可选60度送线。

2.键合线径范围15-70um;焊点尺寸不大于线径的2.5倍;金带范围可达0.001*0.010英寸,最小可用于焊接40*40um的电极。

3.整机静电防护功能,焊接含绝缘层(要求:最薄5nm氧化铝隔离层)器件不击穿。

傅里叶红外光谱仪

 

ThermoFisher Nicolet 6700

支持红外显微反射、透射测量模式

光谱范围7000-650cm-1(1.43um-15.46um)

分辨率:优于0.06cm-1

波数精密度:优于0.01cm-1

支持ATR附件

用于固体的红外透反射光谱测试