武汉大学纳米科学与技术研究中心微纳加工实验室按照工作计划，即将举行2022年度秋季用户集中培训，请有需要的同学在主页“仪器培训报名登记表”窗口提交相应仪器的培训申请。本次集中培训的申请截止日期为2022年9月25日24:00，培训申请提交的窗口过期将自动关闭。感谢您的支持与理解！
本次集中培训的仪器设备有：
1. FEI公司聚焦离子束系统(FIB)的离子束刻蚀培训milling。可实现对纳米器件的原位加工和观测，原位制作电极等。具体工艺包括对硅等材料的物理刻蚀和原位沉积Pt，C材料。
2. FEI公司聚焦离子束系统(FIB)的透射电镜TEM样品制备。通过离子束刻蚀结合原位机械手实现对透射电镜样品的制备。（本培训为培训项目1的高级版本，选择本项则无需选项目1）
3. Raith公司ElinePlus电子束曝光系统EBL培训。可实现最小尺寸30nm或大面积的电子束曝光。
4. 国产紫外曝光UVL培训。设备可实现正面/反面套刻，曝光极限尺寸1微米。紫外波长300-400nm。
5. Obducat公司纳米压印NIL培训。可实现最大到6英寸晶片上面的大面积纳米图案复制，需自备模板。
6. 国产热蒸发TE培训。用于金、银、铬、镍等金属薄膜的制备。
7. 国产反应离子束刻蚀RIE培训。配备CF4，CHF3，SF6，O2等气体，可对硅基材料和有机胶进行干法刻蚀。
8. 引线仪培训。用于器件的电学导线连接。
9. 探针式表面台阶仪。用于薄膜、微米图案的高度测量。
10.超高分辨场发射电镜。可实现超高分辨率的SEM图像的拍摄，以及EDS能谱元素分析。
